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                              流动式光饰机也适用的四大研磨工艺

                              作者: xxsyzs789 发布时间:2019-12-25 浏览次数:351次
                              流动式光饰机也适用的四大研磨工艺

                              1、粗研:选用粒度#60、#80全树脂SiO2、ZrO2砂布,是决定研磨速度的关键步骤,目的是磨掉大而深的坑沟。研磨前需锉掉凸点,研磨时需压紧研磨盘,中速旋转,且正反转向相间研磨效果。每5-15分钟更换一次磨片,每5分钟震屑一次,每次可磨掉2-5丝,速度与材质、合金密封面宽度及是否渗氮处理有关。

                              2、细研:选用粒度#100、#120全树脂或半树脂SiO2、SiC砂布或砂纸,目的是磨掉小浅的坑沟及粗磨划痕。研磨时需压稳研磨盘,匀速旋转。对楔形单闸板,特别是粗研深度达30丝以上时,应在此步骤做红丹印痕试验,对密封件配合角度进行手工纠偏。宜每3-5分钟换一次研磨片,直至纹沟消失,平面度达标。

                              3、精研:选用粒度#180-240,防水SiO2、SiC砂纸,使用对研平板事前防查"波涌现象"。目的是去掉环化幅向浅纹路,提高平面度和光亮度。研磨时需轻压研磨盘,高速旋转。因细砂纸易糊死,应2-3分钟更换一次砂纸,更换三次即可,以使达到高压阀门密封面要求。

                              4、抛光:选用粒度#320-400,防水SiO2砂纸或金相砂纸,目的是在平面的基础上达到光可鉴指纹的程度,以便仔细检查纹路及金相组织特殊变化,调节阀和PN>15MPa的各种阀门密封较高要求。研磨时压稳研磨盘,高速旋转。研磨过程中更换砂纸两次,每次单向转两下共60s即可。

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